我们非常重视您的个人隐私,当您访问我们的网站时,请同意使用的所有cookie。有关个人数据处理的更多信息可访问《隐私条款》

EN
2026-08-14

二维可寻址VCSEL如何真正实现“像素级独立控制”?

二维可寻址VCSEL(2D Addressable VCSEL)正在成为下一代固态激光雷达的重要技术方向。相比传统VCSEL阵列,其核心突破并不是简单增加发光单元数量,而是每一个VCSEL发光单元都可以根据系统需求进行独立开启、关闭以及输出调节,从而实现对二维空间光场的精准控制,使光源具备真正意义上的像素级调控能力。

然而,实现这一能力远比想象中复杂。在实际工程实现过程中,真正的挑战来自微米级尺度上实现对每个发光单元的电学隔离、热学解耦与光学独立调控。

技术文章配图_画板 1(3).png

其中,串扰问题正是二维可寻址VCSEL走向产业化过程中最关键的技术挑战之一,也是瑞识科技核心技术壁垒的关键所在。

在电学方面,相邻发光单元之间可能因导电层或半导体衬底形成寄生电流通路,导致非目标区域产生额外输出,降低阵列对比度和光束控制精度;在热学方面,VCSEL工作产生的热量会通过衬底横向扩散,影响相邻单元的温度状态。由于VCSEL激光波长对温度极其敏感,温度变化可能导致输出波动,影响激光雷达探测稳定性。

blog-03.png

针对这一技术挑战,瑞识科技围绕二维可寻址VCSEL开展了系统性的芯片设计和工艺创新,通过优化隔离结构、热管理方案以及光学设计,降低阵列单元之间的相互影响,实现电、热、光三场的高度解耦。

第一,深槽隔离工艺的自主优化。

在芯片制造过程中,瑞识科技通过刻蚀深度达到有源区的隔离沟槽,并填充高绝缘性介质,在相邻发光单元之间构建稳定的电学隔离屏障。同时,瑞识科技通过多轮工艺验证,完成精准设计,在保证隔离效果的同时,实现了光功率密度的最优解,兼顾性能与集成度。

第二,全链路热阻优化方案。

瑞识科技从外延结构、芯片布局到封装方案进行全链路优化,通过优化电极设计和热传导路径,使发光单元产生的热量沿垂直方向快速释放,最大程度降低横向热扩散影响,实现阵列单元之间更加独立稳定的热工作环境。

凭借多年深耕 VCSEL 领域的技术积累,瑞识科技不仅率先突破像素级独立控制的工艺瓶颈,更将二维可寻址芯片的串扰抑制能力提升至行业领先水平,为固态激光雷达向更高分辨率、更高可靠性方向发展提供关键光源支撑。


→了解更多